Da Premium Mask anti-pollution 100 milliliter
Da Premium Premium mask anti-pollution
DA Premium Mask Anti-Pollution
DA Anti-Pollution skin care producten zijn gebaseerd op natuurlijke detoxifying actieve ingrediënten; Citrusvruchten, Aloë Vera en Broccoli. Deze drie ingrediënten, zorgen voor een schone en frisse huid. Deze Anti-Pollution skin care lijn beschermt en herstelt de huid tegen alle externe factoren, zoals UV stralen en vervuiling, die onze huid aantast.
DA Anti-Pollution Mask is verrijkt met Karite boter en zoete amandelolie. De exclusieve mix van lactic acid en hyaluronzuur bevordert de cel vernieuwing en zorgt voor langdurige hydratatie de hele dag door. Het masker helpt de huid te beschermen tegen stress en vermindert talg, verstevigt de huid en reinigt de poriën.
- Beschermt de huid tegen stress factoren
- Bevordert de cel vernieuwing en zorgt voor langdurige hydratatie
- Bevat natuurlijke extracten die helpen de porien schoon te houden
- Verrijkt met Hyaluronzuur, zoete Amandel olie en Kariteboter
- Bevordert de celvernieuwing
Ingrediënten (INCI)
Aqua (Water), Propylene Glycol, Glycerin, Prunus Amygdalus Dulcis (Sweet Almond) Oil, Cetearyl Alcohol, Propanediol, Cera Alba (Beeswax), Kaolin, Myristyl Alcohol, Butyrospermum Parkii (Shea) Butter, Ceteareth-20, Ceteareth-30, Glyceryl Stearate, Aloe Barbadensis Leaf Extract, Brassica Oleracea Italica (Broccoli) Extract, Bioflavonoids, Sodium Hyaluronate, Panthenol, Lactic Acid, 1,2-Hexanediol, Glycolic Acid, Sodium Hydroxide, Caprylyl Glycol, Xanthan Gum, Sodium Anisate, Disodium EDTA, Parfum (Fragrance)
Gebruik
Breng DA Anti-Pollution Mask aan op een gereinigd gezicht. Laat het masker voor 10 tot 15 minuten zitten. Verwijder het restant masker van het gezicht met lauw warm water.
Vermijd het gebied rondom de ogen. Voor een optimaal resultaat is het aan te bevelen om dit masker in combinatie te gebruiken met de DA Anti-Pollution Cleanser.
Bewaaradvies
Houd weg bij warmtebronnen. Bewaar op een droge en koele plek.
Waarschuwingen
Alleen voor extern gebruik.